Паттерн-генератор нового поколения XeDraw 2 позволяет обновить сканирующий электронный микроскоп или систему FIB до прецизионной литографической системы!

XENOS XeDraw 2 — это система прецизионной засветки фоторезиста, которая создает данные шаблона и генерирует соответствующие сигналы управления пучком заряженных частиц для различных приложений полупроводниковой литографии.
При подключении к сканирующему электронному микроскопу, FIB микроскопу или двухлучевой системе, этот паттерн-генератор модернизирует имеющийся микроскоп в современную лабораторию современной нанолитографии на полупроводниках или других материалах. XENOS XeDraw 2 состоит из паттерн-генератора, который генерирует сигналы отклонения для шаблонов, которые затем записываются микроскопами SEM, E-beam или FIB, реализуя интеллектуальные схемы записи и примитивы формы, чтобы в полной мере использовать преимущества полосы пропускания отклоняющей цепи. Система поставляется с удобным программным обеспечением ECP для проектирования шаблонов и управления электронным пучком. Загрузка прошивки через USB позволяет легко обновлять программное обеспечение, а также реализовывать новые функции без фактических изменений оборудования или перепрограммирования флэш-памяти.

Наслаждайтесь 4 основными преимуществами:

• Скорость записи

Пиксельные частоты записи до 10 МГц можно реализовать с помощью системы XeDraw 2. Благодаря интеллектуальным алгоритмам записи принимается во внимание ограничение отклонения для имеющихся микроскопов FIB и SEM. Оптимизированная передача данных через USB и расчет времени экспонирования согласуются со скоростью записи таким образом, чтобы обеспечить все преимущества быстрой записи.

• Интеллектуальные и Универсальные Примитивы записи

Изогнутые структуры, такие как круги, кольца или эллипсоиды, записываются с помощью многоугольной аппроксимации структур. Возникающие проблемы возникают либо из-за плохой аппроксимации, либо из-за огромного количества растровых данных, которые необходимо обработать и которые часто приводят к нежелательным артефактам из-за наложения многоугольных частей разных структур. В приставке XeDraw 2 реализована логика сканирования полиномов 3-го порядка, которая может генерировать и записывать эти полиномы с максимальной скоростью. Поэтому круги или кольца могут быть записаны концентрическими однопиксельными кольцами (со сплайн-интерполяцией). Таким образом, XeDraw 2 представляет принципиально более высокий уровень поколения по сравнению с нашими конкурентами.
Таким образом, максимальная скорость записи и качество аппроксимации могут быть достигнуты с минимальными издержками на передачу данных и временем передачи. Кроме того, синусоидальная форма сигналов отклонения потребляет гораздо меньшую ширину полосы отклонения, чем растровое сканирование многоугольных частей структур. Кроме того, алгоритм записи XeDraw 2 симметрично использует пропускную способность осей X и Y.

• Исключительная гибкость

Система паттерн-генерации может быть идеально настроена в соответствии с вашими задачами. Операционная система DSP загружается при запуске через USB, поэтому само операционное ядро выполняет лишь функции вырезания и вставки, заранее просчитанные управляющим компьютером. В системе XeDraw 2 реализованы специальные функции, такие как обработка с фокусированным электронным пучком (FEBIP), а также контроль записи для обработки FIB.

• Новейшая цифровая электроника, удобное программное обеспечение и первоклассные аксессуары

Генерация полного сигнала отклонения реализуется в продвинутом процессоре цифровых сигналов (DSP) с разрешением 16/32 бит на ось. В частности, для коррекции поля не используются умножающие аналоговые ЦАП ограничивающие полосу пропускания. Наши ЦАП полностью реализованы в цифровой форме, поэтому работают на максимальной скорости записи без каких-либо искажений в результирующем сигнале отклонения. Время экспозиции генерируется линейно с разрешением менее одной наносекунды. Наше программное обеспечение системы автоматизированного проектирования (CAD) и управления ECP было написано опытными пользователями литографии, что впоследствии превратило ECP в удобную для пользователя систему, ориентированную на пользователей литографии. Программное обеспечение ECP доступно для операционных систем Linux или Windows, в то время как сама часть CAD может свободно использоваться в рабочей группе. Система комплектуется предметным столиком для образцов и быстрым гасителем луча (beam blanker).